微波射流等离子体设备

微波等离子清洗机利用2.45GHz微波激发高密度等离子体，通过物理轰击与化学反应双重作用，实现材料表面纳米级深度清洁、有机物分解及亲水活化。设备工作温度＜60℃，无电极污染，支持氧气、氩气等多气体精准控制，显著提升半导体键合强度、医疗植入物生物相容性及高分子材料粘接可靠性。

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真空微波等离子清洗机CM-XAS

桌面型微波等离子清洗机CM-XAS，可根据客户需求灵活定制腔体及配置，可满足研究实验室及小批量生产的需求

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